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一种育苗块的制作方法与工艺

来源：花匠小妙招时间：2024-12-09 13:09

技术领域本实用新型涉及栽种领域，尤其涉及一种育苗块。

背景技术：
育苗块适用于蔬菜和花卉等各种作物栽培育苗，其集基质、营养和容器与一体。育苗块的应用，完全改变了传统育苗需自行准备育苗床土、添加肥料、消毒防病等繁琐操作程序，大大提高了工作效率。目前育苗块大多是由草炭与适量添加剂等混合均匀直接压制，育苗块的上部中心留有育苗孔，可以直接放置种子。但是目前的育苗块在使用时发现温度较高时水分挥发过快，其结果使得浇水周期过短，秧苗需要多次浇水，增加人工成本，且浪费水资源。专利CN201520336050.7公开了一种用于农业生产和实验室种子育苗的育苗盘，包括育苗盘以及在育苗盘内设置的育苗托盘，在育苗盘的顶部并且在育苗托盘的上方设置有育苗盘盖，所述的育苗盘盖由相互交错的钢丝连接组成网格状结构，在钢丝顶面和底面设置有海绵，在海绵上设置有透气孔，在育苗盘盖的四周设置有边框。该专利是通过设置海绵制成的育苗盘盖来实现节水的目的的，但是设置海绵可能影响育苗的日光照射。因此提供一种能够保水同时不影响日光照射的育苗块是亟待解决的问题。

技术实现要素：
针对上述问题，本实用新型的目的是提供一种能够保水的育苗块。本实用新型的技术方案如下：一种育苗块，其包括第一育苗层，所述第一育苗层上设置有育苗孔；第二育苗层，所述第二育苗层位于所述第一育苗层的下方；以及保水层，所述保水层设置在所述第一育苗层和所述第二育苗层之间。其中，所述保水层与所述第一育苗层的上表面之间的距离占所述育苗块的总高度的30％至60％和/或所述保水层与所述第一育苗层的上表面之间的距离为5mm至100mm。其中，所述保水层与所述第一育苗层的上表面之间的距离大于所述育苗孔的深度。其中，所述保水层的厚度为所述育苗块的总高度的1％至30％和/或所述保水层的质量占所述育苗块的质量的0.10％至30％。其中，所述育苗块还包括第三育苗层和保肥层，所述第三育苗层位于所述第二育苗层的下方，所述保肥层位于所述第二育苗层和所述第三育苗层之间。其中，所述保肥层与所述第三育苗层的下表面之间的距离占所述育苗块的总高度的5％至50％和/或所述保肥层与所述第三育苗层的下表面之间的距离为5mm至100mm。其中，所述保肥层的厚度为所述育苗块的总高度的1％至30％和/或所述保肥层的质量占所述育苗块的总质量的0.2％至30％。其中，所述保肥层与所述第三育苗层的下表面之间的距离不大于所述保水层与所述第一育苗层的上表面之间的距离。其中，所述保水层的横截面面积小于所述第一育苗层的横截面的面积，或者所述保肥层的横截面面积小于所述第三育苗层的横截面的面积。其中，所述育苗块整体为圆柱体，所述育苗孔整体呈圆台或圆锥体。本实用新型的有益效果是：本实用新型的育苗块在育苗层中间设置了保水层，保水层中含有保水剂，通过保水层能够延缓水分蒸发的速度，从而延长了浇水间隔，降低了劳动强度，节约了水资源，降低了成本。经试验，带有保水层的育苗块(其中保水层的质量占整个育苗块的质量的0.10-30％)在育苗过程中可以延长5-35％的浇水时间间隔。附图说明图1为本实用新型的育苗块的一个实施例的整体示意图；图2为图1所示的育苗块的剖面示意图；图3为本实用新型的育苗块的另一实施例的整体示意图；图4为图所示的育苗块的剖面示意图。具体实施方式为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体附图及具体实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。参见图1和图2，本实用新型提供一种育苗块，其包括第一育苗层110、第二育苗层120和保水层200，所述第二育苗层120位于所述第一育苗层110的下方，所述保水层200设置在所述第一育苗层110和所述第二育苗层120之间。育苗块的整体可以是任意几何形状，优选的本实施例中的育苗块整体为圆柱体，其横截面为圆形。第一育苗层110上设置有育苗孔111，育苗孔111从第一育苗层110的上表面向第一育苗层的内部延伸，育苗孔111用于放置待培育的种子。本实施例中的育苗孔的整体形状为圆台或圆锥体。第一育苗层和第二育苗层可以采用草炭和适量添加剂压制而成。保水层可以采用保水剂与添加剂(添加剂可以是枯枝落叶腐熟物、珍珠岩、蛭石、炉渣、椰渣中的一种或多种的混合物)混合压制而成。由于保水层中含有保水剂，因此设置保水层后能够有效锁定育苗块中的水分，尤其是避免高温下的水分蒸发过快，从而延长浇水间隔时间。较佳的，作为一种可实施方式，参见图2，所述保水层200与所述第一育苗层110的上表面之间的距离h1占所述育苗块的总高度H的30％至60％和/或所述保水层200与所述第一育苗层110的上表面之间的距离h1为5mm至100mm。保水层与第一育苗层的上表面(及整个育苗块的上表面)之间的距离过大则不能达到很好的保水效果，距离过小则容易影响种子发育。更优的，参见图2，所述保水层200与所述第一育苗层110的上表面之间的距离h1大于所述育苗孔111的深度L。也就是说保水层与育苗孔最好不要相交，这样设置是避免保水层中的成分影响种子发育。进一步的，参见图2，所述保水层200的厚度h2为所述育苗块的总高度H的1％至30％。育苗块的总高度一般为20mm至200mm，保水层的厚度优选0～40mm。较优的，所述保水层的质量占所述育苗块的质量的0.10％-30％，在育苗过程中可以延长5-35％的浇水时间间隔。较佳的，作为上述实施例的进一步改进，参见图3和图4，本实施例中的育苗块包括第一育苗层110、第二育苗层120、第三育苗层130、保水层200和保肥层300，第一育苗层110、第二育苗层120和第三育苗层130从上至下依次设置，保水层200位于第一育苗层110和第二育苗层120之间，保肥层300位于第二育苗层120和第三育苗层130之间。目前的育苗块还存在着浇水过量后，育苗块中中的氮磷钾等营养元素流失的问题，其结果是肥料利用率降低，污染环境且不利于秧苗成长。为了解决营养元素流失的问题，本实施例进一步设置了保肥层300。保肥层300可以采用保肥剂和添加剂((添加剂可以是枯枝落叶腐熟物、珍珠岩、蛭石、炉渣、椰渣中的一种或多种的混合物)混合压制而成。当然，在保肥层中可以添加适量的保水剂。在保水层中也可以添加适量的保肥剂。使用保肥层增加了土壤吸附微量营养元素(氮、磷和钾)的能力，相对于未添加保肥层样品，当保肥层的质量占育苗块整体质量的0.2～30％时，其中固氮量提高了1～25％，固钾量提高了1～25％，因此提高了育苗块的保肥和供肥能力。较佳的，参见图4，所述保肥层300所述第三育苗层130的下表面之间的距离h3占所述育苗块的总高度H的5％至50％和/或所述保肥300与所述第三育苗层130的下表面之间的距离h3为5mm至100mm。进一步的，参见图4，所述保肥层300的厚度h4为所述育苗块的总高度H的1％至30％。育苗块的总高度一般为20mm至200mm，保肥层的厚度优选0～40mm。同时，为了进一步保证保水保肥效果，参见图4，本实施例中，所述保肥层300与所述第三育苗层130的下表面之间的距离h3不大于所述保水层200与所述第一育苗层110上表面之间的距离h1。即h3≤h1。作为进一步的改进，本实施例中，所述保水层200的横截面面积小于所述第一育苗层110的横截面的面积，或者所述保肥层300的横截面面积小于所述第三育苗层130的横截面的面积。其中第一育苗层和第三育苗层的横截面面积均是育苗块的横截面的面积。保水层和保肥层的横截面面积较小有利于育苗块为种子提供生长元素。本实用新型的育苗块通过在育苗层中设置保水层和保肥层使得育苗块具有很好的保水、保肥效果，尤其适用于高温中使用以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以权利要求为准。