铁皮石斛的种植方法与流程

技术总结
本发明公开了一种铁皮石斛的种植方法，包括：步骤一、提供温室大棚环境，进行铁皮石斛的种植，温室大棚内被划分为多个种植区域，每个种植区域内均设置有一罩部，罩部包括一设置于地面上的升降机构和设置于升降机构顶端的罩体，罩体采用不透光材料，罩体在升降机构的驱动下罩住其所在的种植区域；步骤二、取原料制成铁皮石斛的培养基质；步骤三、首先于温室大棚内铺设培养基质，将铁皮石斛种子播种于培养基质中，于光照温度22～28℃、黑暗温度20～22℃，光周期8～16小时/日，光照度800～2000lx和湿度50～70％条件下培养1年，得到铁皮石斛小苗；步骤四、于温室大棚内铺设培养基质，之后将铁皮石斛小苗移栽至该30～40cm的培养基质中，培养1～2年，得到铁皮石斛。

技术研发人员：农凯峰
受保护的技术使用者：农凯峰
文档号码：201710168464
技术研发日：2017.03.21
技术公布日：2017.08.18

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