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一种热红外低辐射仿绿叶多层膜及其制备方法技术

来源：花匠小妙招时间：2025-12-09 08:34

本发明专利技术属于伪装材料技术领域，具体为一种热红外低辐射仿绿叶多层膜及其制备方法。包括依次设置的基底、长波红外调控层、中波红外调控层和仿绿叶高光谱调控层；长波红外调控层按MHML的周期结构层叠排列于基底上，中波红外调控层按(HM)<subgt;2</subgt;L的周期结构层叠排列于长波红外调控层上，仿绿叶高光谱调控层按(LM)<subgt;3</subgt;(HM)<subgt;3</subgt;(HL)(HM)的周期结构层叠排列于中波红外调控层上；H为高折射率材料，M为中折射率材料，L为低折射率材料。本发明专利技术针对现有技术兼容性差、雷达波传输影响大、多层膜厚度控制要求严苛等问题，通过优化膜系结构，在可见光‑近红外波段实现了仿绿叶高光谱伪装特性，并在热红外双波段内具备低辐射性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于伪装材料，具体涉及一种热红外低辐射仿绿叶多层膜及其制备方法。

技术介绍

1、随着探测技术的飞速发展，高光谱成像技术凭借其高光谱分辨率、宽探测波段和丰富的数据输出等特性，已成为重要的目标识别手段。该技术能够精确识别目标与环境反射光谱的细微差异，使得传统的可见光伪装技术难以满足当前的应用需求。同时，随着光学伪装技术的不断进步，研究者们开始关注多波段兼容伪装技术的开发，以适应和对抗日益复杂的多波段探测技术。这一趋势要求光学伪装材料不仅在可见光下有效，还要在红外和其他光谱波段下实现低特征信号，以提高目标在复杂环境下的生存率和隐蔽性。

2、现有的可见光伪装技术主要使用如非金属可见光激光红外多波段兼容隐身薄膜及其制备方法(专利cn112346160a)的多层膜体系，如一种高光谱隐身涂料及其制备方法和高光谱隐身涂层(专利cn111218197a)的涂料或者如内部封装液体的聚氨酯微胶囊、面向植被环境的高光谱隐身材料及其制备方法与应用(专利cn116688884a)的隐身胶囊，实现对绿叶特征峰的精确模拟。上述薄膜体系的缺点在于：...

【技术保护点】

1.一种热红外低辐射仿绿叶多层膜，其特征在于，包括依次层叠设置的基底、长波红外调控层、中波红外调控层和仿绿叶高光谱调控层；

2.根据权利要求1所述的热红外低辐射仿绿叶多层膜，其特征在于，所述高折射率材料H为Ge，所述中折射率材料M为ZnS，所述低折射率材料L为YbF3；

3.根据权利要求2所述的热红外低辐射仿绿叶多层膜，其特征在于，所述热红外低辐射仿绿叶多层膜包括依次层叠设置的基底、YbF3膜、ZnS膜、Ge膜、ZnS膜、YbF3膜、ZnS膜、Ge膜、ZnS膜、Ge膜、ZnS膜、Ge膜、YbF3膜、Ge膜、ZnS膜、Ge膜、ZnS膜、Ge膜、Z...

【技术特征摘要】

1.一种热红外低辐射仿绿叶多层膜，其特征在于，包括依次层叠设置的基底、长波红外调控层、中波红外调控层和仿绿叶高光谱调控层；

2.根据权利要求1所述的热红外低辐射仿绿叶多层膜，其特征在于，所述高折射率材料h为ge，所述中折射率材料m为zns，所述低折射率材料l为ybf3；

3.根据权利要求2所述的热红外低辐射仿绿叶多层膜，其特征在于，所述热红外低辐射仿绿叶多层膜包括依次层叠设置的基底、ybf3膜、zns膜、ge膜、zns膜、ybf3膜、zns膜、ge膜、zns膜、ge膜、zns膜、ge膜、ybf3膜、ge膜、zns膜、ge膜、zns膜、ge膜、zns膜、ge膜、zns膜、ybf3膜、zns膜、ybf3膜、zns膜、ybf3膜。

4.根据权利要求3所述的热红外低辐射仿绿叶多层膜，其特征在于，所述长波红外调控层的每个lmhm周期单元中，lmhm各层的厚度分别为883x nm、231x nm、510x nm、139x nm，x的取值范围为95％-105％。

5.根据权利要求3所述的热红外低辐射仿绿叶多层膜，其特征在于，所述中波红外调控层的每个lmhmh周期单元中，lmhmh各层的厚度分别为427x nm、152x nm、168x nm、447x ...

【专利技术属性】
技术研发人员：王鲜，李莽，黄麟棋，龚韦，王韬，龚荣洲，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：