设施西瓜不同基质栽培方式比较试验

摘要： 为探究不同栽培方式对西瓜根区温度和产量的影响,本研究对垄沟基质栽培、沟槽基质栽培和膜上基质栽培3种不同的栽培方式进行对比试验。结果表明,3种栽培方式根区日温度变化均呈S形曲线,日平均温度在22.0~22.3℃,处理间日均温度相差不大;西瓜中心糖度以垄沟基质栽培最高;膜上基质栽培和垄沟基质栽培方式西瓜产量较高。因此,膜上基质栽培和垄沟基质栽培是西瓜较为适宜的基质栽培方式,其中垄沟基质栽培因水肥管理方便、用工少,农户易接受,具有更广泛的应用前景。

关键词: 西瓜, 基质栽培, 温度, 产量

引用本文

杨娜, 杨志国, 王珂, 张建诚, 徐隽铭, 席吉龙. 设施西瓜不同基质栽培方式比较试验[J]. 农业科技通讯, 2023, 0(7): 112-114.

使用本文

导出引用管理器 EndNote|Ris|BibTeX

链接本文:http://tongxun.aiijournal.com/CN/

              http://tongxun.aiijournal.com/CN/Y2023/V0/I7/112

相关知识

设施西瓜不同基质栽培方式比较试验
北京地区常规设施小型西瓜基质种植技术
西瓜工厂化基质育苗技术
海南省小果型西瓜周年设施基质栽培技术规程
大棚嫁接西瓜栽培密度、坐果节位及整枝方式试验(摘要)
大棚西瓜不同种植密度及整蔓留瓜方式试验.pdf
设施栽培专用西瓜甜瓜新品种的引进与选育研究.pdf
不同水稻基质育秧效果比较试验
常用花灌木容器栽培基质配方初步研究
蟹爪兰在不同基质中的栽培试验

网址: 设施西瓜不同基质栽培方式比较试验 https://www.huajiangbk.com/newsview2408058.html